Метод детонаційного напилення: особливості технічної реалізації процесу та технологія отримання надтонких шарів напівпровідникових оксидів

Москвін П.П., Рудніцький В.А.
Метод детонаційного напилення: особливості технічної реалізації процесу та технологія отримання надтонких шарів напівпровідникових оксидів

Вид документа: Стаття періодичного видання
Рiк видання: 2019
Автор: Москвін П.П., Рудніцький В.А. Авторський знак: М82 Вид автора: персона
Мова: Українська Обсяг: С.228-235
Шифр: 6 УДК: 6

Аннотацiя:

синтез наноплівок напівпровідників A2B6; метод детонаційного напилення; морфологія поверхні; мультифрактальний аналіз

Електронна версія документа: /e-copies/VISNUK/83_I/228.pdf

Є складовою частиною документа: Вісник Житомирського державного технологічного університету